エッチング方法

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an etching method of manufacturing a structure of a predetermined shape with high accuracy.SOLUTION: An etching method comprises: a process of preparing a substrate 30; a process of forming a mask 15; and a process of performing dry etching by using the mask. The mask includes a top part 154 which is arranged on the side opposite to the substrate, and has a first principal surface 151 and a bottom 155 which is arranged on the substrate side and has a second principal surface 152 on the side opposite to the first principal surface. The top part includes at least a part of the bottom inside when viewed from above the substrate, and in which an angle θ1 formed by a line segment 401 of a portion on a lateral face 153 of the top part and a line segment 403 of a portion on a surface of the substrate where the mask is formed is larger than an angle θ2 formed by a line segment 402 of a portion on a lateral face of the bottom and a line segment of a portion on a surface 301 of the substrate where the mask is formed when viewed from the side face of the bottom part.SELECTED DRAWING: Figure 7
【課題】所定形状の構造体を精度良く製造するエッチング方法を提供する。 【解決手段】エッチング方法は、基板30を準備する工程と、基板上に、マスク15を形成する工程と、基板に、マスクを用いてドライエッチングを行う工程と、を含む。マスクは、基板と反対側に配置されて第1の主面151を有するトップ部154と、基板側に配置されて第1の主面の反対側にある第2の主面152を有するボトム部155と、を備える。トップ部は、基板の平面視で、ボトム部の少なくとも一部を内側に含み、かつ、基板の側面視で、トップ部の側面153の部分の線分401と基板のマスクが形成されている面の部分の線分403とのなす角θ1は、ボトム部の側面の部分の線分402と基板のマスクが形成されている面301の部分の線分とのなす角θ2よりも大きい。 【選択図】図7
【課題】所定形状の構造体を精度良く製造するエッチング方法を提供する。【解決手段】エッチング方法は、基板30を準備する工程と、基板上に、マスク15を形成する工程と、基板に、マスクを用いてドライエッチングを行う工程と、を含む。マスクは、基板と反対側に配置されて第1の主面151を有するトップ部154と、基板側に配置されて第1の主面の反対側にある第2の主面152を有するボトム部155と、を備える。トップ部は、基板の平面視で、ボトム部の少なくとも一部を内側に含み、かつ、基板の側面視で、トップ部の側面153の部分の線分401と基板のマスクが形成されている面の部分の線分403とのなす角θ1は、ボトム部の側面の部分の線分402と基板のマスクが形成されている面301の部分の線分とのなす角θ2よりも大きい。【選択図】図7

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